光刻掩膜的作用
产品中心 / 2024-10-25
光刻掩膜是半导体制造中不可或缺的工艺,它是一种在半导体晶片制造中使用的技术,用于在硅片表面上形成微小的电路图案。这种技术可以说是半导体工业中最重要的技术之一,它的作用是将光刻图案转移到硅片上,从而实现电路的制造。 光刻掩膜是一种光学器件,它的作用是将光刻图案投射到硅片上。这种器件通常由一层透明的玻璃或石英基板和一个光刻图案组成。当光线穿过掩膜时,只有光刻图案上的部分能够透过基板,然后照射到硅片上,形成微小的电路图案。 在半导体制造中,光刻掩膜的作用非常重要。它可以帮助制造商在硅片上形成微小的电